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Hochreines Aluminium für Elektronik und die Technologie von morgen

In der engen Zusammenarbeit mit unseren Kunden bieten wir höchste Qualitätsstandards; so erhalten Sie maßgeschneiderte Lösungen auch für spezielle Anforderungen.

high purity aluminium

Anwendungsbereiche

  • Sputtertargets für die Produktion von Halbleiterchips
  • Sputtertargets für die Produktion von Flachbildschirmen
  • Aufdampfwerkstoffe für hochmoderne Dünnschichtanwendungen
  • Höchstreines Aluminiumoxid für Batterieanwendungen
  • Höchstreines Aluminiumoxid für die Fertigung von LED-Chips
  • Glänzende Oberfläche und dekorative Verwendung

Produktdetails

  • Reinheitsgrade von 99,998 bis 99,9999 Prozent (4N8–5N5)
  • Brammen, übliche Größe 460 mm × 1600 mm × 3000 mm, maximale Gusslänge 6300 mm
  • Knüppel, üblicher Durchmesser 84–420 mm, maximale Gusslänge 2800 mm
  • Barren, übliches Barrengewicht 120 kg
  • Massel, übliches Masselgewicht 300 kg
  • Pyramiden

Wollen Sie Einzelheiten zu diesen Produkten erfahren? Laden Sie unsere Broschüre „Hochreines Aluminium“ herunter (auch auf Japanisch verfügbar).

Wichtigste Eigenschaften

  • Höchste Reinheit
  • Extrem geringer Grad an Verunreinigungen und Spurenelementen
  • 3-Schicht-Elektrolyse in Kombination mit trennender Veredelungstechnik

Unser Beratungsangebot

Unsere Produkte werden maßgeschneidert gemäß den Anforderungen und technischen Vorgaben der Kunden gefertigt, sodass sie problemlos in deren Herstellungsprozess eingefügt werden können.

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