Hochreines Aluminium für Elektronik und die Technologie von morgen
In der engen Zusammenarbeit mit unseren Kunden bieten wir höchste Qualitätsstandards; so erhalten Sie maßgeschneiderte Lösungen auch für spezielle Anforderungen.
Anwendungsbereiche
- Sputtertargets für die Produktion von Halbleiterchips
- Sputtertargets für die Produktion von Flachbildschirmen
- Aufdampfwerkstoffe für hochmoderne Dünnschichtanwendungen
- Höchstreines Aluminiumoxid für Batterieanwendungen
- Höchstreines Aluminiumoxid für die Fertigung von LED-Chips
- Glänzende Oberfläche und dekorative Verwendung
Produktdetails
- Reinheitsgrade von 99,998 bis 99,9999 Prozent (4N8–5N5)
- Brammen, übliche Größe 460 mm × 1600 mm × 3000 mm, maximale Gusslänge 6300 mm
- Knüppel, üblicher Durchmesser 84–420 mm, maximale Gusslänge 2800 mm
- Barren, übliches Barrengewicht 120 kg
- Massel, übliches Masselgewicht 300 kg
- Pyramiden
Wollen Sie Einzelheiten zu diesen Produkten erfahren? Laden Sie unsere Broschüre „Hochreines Aluminium“ herunter (auch auf Japanisch verfügbar).
Wichtigste Eigenschaften
- Höchste Reinheit
- Extrem geringer Grad an Verunreinigungen und Spurenelementen
- 3-Schicht-Elektrolyse in Kombination mit trennender Veredelungstechnik
Unser Beratungsangebot
Unsere Produkte werden maßgeschneidert gemäß den Anforderungen und technischen Vorgaben der Kunden gefertigt, sodass sie problemlos in deren Herstellungsprozess eingefügt werden können.
